光亮退火爐廣泛應用于汽車、柴油機、航空、航天、空調制冷、燃氣熱水器、電子、微波磁控管等行業(yè)的不銹鋼、碳鋼、黃銅、紫銅、陶瓷等零件的釬焊和其它光亮熱處理。
光亮退火爐是在半導體器件制造中使用的一種工藝,其包括加熱多個半導體晶片以影響其電性能。熱處理是針對不同的效果而設計的。可以加熱晶片以激活摻雜劑,將薄膜轉換成薄膜或將薄膜轉換成晶片襯底界面,使致密沉積的薄膜,改變生長的薄膜的狀態(tài),修復注入的損傷,移動摻雜劑或將摻雜劑從一個薄膜轉移到另一個薄膜或從薄膜進入晶圓襯底。加熱方式有電加熱、燃油、燃氣、燃煤、熱風循環(huán)。